X射線熒光（“XRF"）是已用于包括礦物的各種樣品的元素分析的技術(shù)。XRF分析器 通過用X射線照射樣品上的一個(gè)點(diǎn)并測量由該樣品中不同元素所發(fā)射的特征X射線的光譜 來確定該樣品的化學(xué)性質(zhì)。X射線的主要來源可以是X射線管或放射性材料如放射性同位 素。如在此所使用的術(shù)語“X射線"包括在約IkeV與約150keV之間能量的光子，并因此將包 括：由已激勵原子在其去激勵時(shí)發(fā)射的特征X射線；當(dāng)電子由原子散射時(shí)發(fā)射的韌致輻射X 射線;分別地一般稱為瑞利(Rayleigh)和康普頓(Compton)散射福射的彈性地和非彈性地 散射的光子。

當(dāng)暴露于來自射線源的高能初級X射線時(shí)，在一種樣品中存在的每種原子元素產(chǎn) 生實(shí)質(zhì)上是該特定元素的指紋的一組特征熒光X射線。X射線熒光分析器通過用X射線照射樣品上的一個(gè)點(diǎn)并測量由該樣品中各種元素所發(fā)射的特征X射線的光譜來確定該樣 品的化學(xué)性質(zhì)。X射線的主要來源可以是X射線管或放射性材料如放射性同位素。在原子等 級上，當(dāng)充足能量的光子擊中該樣品中的原子時(shí)，將電子逐出原子的一個(gè)內(nèi)軌道層時(shí)產(chǎn)生特征熒光X射線。該原子然后幾乎立即恢復(fù)穩(wěn)定性，用來自該原子的一個(gè)較高能量(外層)軌 道層中的電子填充在內(nèi)軌道層中留下的空位。過多能量能夠以熒光X射線的形式被釋放，即以表征原子的兩個(gè)量子態(tài)之間的差異的能量形式。通過誘導(dǎo)和測量由該樣品中不同元素所 發(fā)射的寬范圍的不同的特征熒光X射線，XRF分析器能夠確定在該樣品中存在的元素，并基 于在具體能量發(fā)生的熒光X射線的數(shù)目計(jì)算其相對濃度。然而，除了在特殊情況下，用便攜式XRF分析器典型地都無法直接測量低濃度的輕元素（lightelements)(原子序數(shù)較低的 那些元素，Z典型低于20)，因?yàn)槟芰康陀诩s2.5千電子伏特(keV)的熒光X射線在短的空氣路徑長度內(nèi)被吸收。因此，輕元素XRF分析要求氦氣吹掃或真空檢測環(huán)境，這對便攜式或手持式儀器可能是不方便的。而臺式XRF光譜儀EDX9000A配備的真空系統(tǒng)，配合特別設(shè)計(jì)的光路，能很好實(shí)現(xiàn)對輕元素的檢測。這對于礦產(chǎn)，比如鋁土礦或者一些高硅高鋁樣品的檢測，顯得尤為重要。